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一種連續(xù)式硅碳負極動態(tài)CVD燒結(jié)爐
摘要:本發(fā)明公開了連續(xù)式硅碳負極動態(tài)CVD燒結(jié)爐,包括安裝平臺,螺旋進料器,爐頭罩,爐管和爐尾罩,爐管頭端位于爐頭罩內(nèi)且尾端位于爐尾罩內(nèi),螺旋進料器與爐頭罩密封對接,爐尾罩上設(shè)有出料口,爐管頭端于爐頭罩之外的部分設(shè)有第一密封法蘭,第一密封法蘭與爐頭罩之間設(shè)有第一波紋管,第一密封法蘭與第一波紋管之間密封連接,二者連接處的外周套有第一抽氣罩,爐管尾端于爐尾罩之外的部分設(shè)有第二密封法蘭,第二密封法蘭與爐尾罩之間設(shè)有第二波紋管,第二密封法蘭與第二波紋管之間密封連接,二者連接處的外周套有第二抽氣罩.本發(fā)明采用抽氣罩將可能泄露的氣體及時抽走,防止危險氣體泄漏引發(fā)爆炸危險,整體密封性好,安全可靠.
申請(專利)號: CN201910758826.7
申請日期: 2019-08-16
公開/公告號: CN110500879A
公開/公告日期: 2019.11.26
申請(專利權(quán))人:中國電子科技集團公司第四十八研究所
發(fā)明人:王建業(yè),曾帥強,龍純,謝禮飛,宋曉峰,何易鵬
國省代號: CN430103
