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光亮退火爐介紹
光亮退火爐是一種新型換熱設(shè)備。光亮退火爐是半導(dǎo)體器件制造中使用的工藝,包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響它們的電功能。熱處理針對(duì)不同的功能進(jìn)行規(guī)劃。晶片可以被加熱以激活摻雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或晶片襯底界面,精細(xì)沉積薄膜,改變生長(zhǎng)薄膜的狀態(tài),修復(fù)注入的損傷,將摻雜劑從一個(gè)薄膜移動(dòng)或轉(zhuǎn)移到另一個(gè)薄膜,或者從薄膜進(jìn)入晶片襯底。加熱方式有電加熱、燃油、燃?xì)狻⑷济骸犸L(fēng)循環(huán)。光亮退火爐的使用
