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光亮退火爐現已廣泛應用于工業領域
光亮退火爐現在廣泛應用于工業行業,是一種非常重要的設備。光亮退火爐根據不同的工作環境有多種分類。退火爐是半導體器件制造中使用的工藝,包括加熱多個半導體晶片以影響它們的電特性。熱處理是為不同的效果而設計的。晶片可以被加熱以激活摻雜劑,將薄膜轉換成薄膜或晶片襯底界面,密集沉積薄膜,改變生長薄膜的狀態,修復注入的損傷,將摻雜劑從一個薄膜移動或轉移到另一個薄膜,或者從薄膜進入晶片襯底。
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